一扩散，采取两歩工艺：预淀积温度高（1200℃）时间长（50min），再分布温度低（970℃）时间短（30min），杂质近似为服从高斯分布。A:正确 B:错误答案: 错误分析：D1t1>>D2t2，杂质近似服从余误差分布

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一扩散，采取两歩工艺：预淀积温度高（1200℃）时间长（50min），再分布温度低（970℃）时间短（30min），杂质近似为服从高斯分布。A:正确 B:错误 答案: 错误 分析：D1t1>>D2t2，杂质近似服从余误差分布